檢索結果：共3筆資料 檢索策略： "Kuei-Yi Lee".ecommittee (精準) and ckeyword.raw="透明導電膜"
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本研究利用反應式離子束濺鍍法成功地沉積了氧化鎳薄膜， 並且研究氧氣流量比及沉積基板溫度對於氧化鎳薄膜的光電特性影響。研究結果顯示，在 300℃下的NiO(200)的半高寬會比在 150℃下的NiO(…
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本實驗使用離子束濺鍍法在玻璃基板上沉積氧化銦錫薄膜，利用改變基板溫 度及退火溫度來觀察薄膜特性的變化，分別使用室溫、100 及200℃來沉積薄膜。 在室溫下沉積未退火的ITO 薄膜呈現非晶結構，當薄…
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本研究利用反應式離子束濺鍍法成功地沉積了氧化鎳以及氧化鎳摻銅薄膜，並針對研究氧氣流量比、沉積基板溫度以及摻銅濃度比例對於氧化鎳薄膜的光電特性影響。氧氣流量比的提升會造成薄膜內鎳空缺的濃度增加，使得在…